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  3. Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.995% (metals basis)

Silicon(IV) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.995% (metals basis)

Numéro d'article : 41096.KS
Unité de mesure : 1 ST
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    Synonymes : Silicon dioxide;Silicium dioxide;Silicium (IV) oxide;Silicium-dioxide
    Fabricant : ALFA AESAR
    Numéro du fabricant : 41096.KS
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    Silicium dioxyde ≥99.995% (metals basis), sputtering target, Ø 50.8 mm (2.0 in), Thickness: 3.18 mm (0.125 in)